请教大家:光刻工艺之后的芯片需要检测良率吗?
请教大家:光刻工艺之后的芯片需要检测良率吗?{:1_180:} 同问 涂胶-烘烤-曝光-显影这统称为光刻工序,曝光就是所谓的特殊工序,必须在显影后才可以检查曝光过程质量,光刻工序一般被定义为关键重要工序,需要执行三检和100%全检。光刻完了还要做扩散,外延,氧化等工学,各工序都有IPQC,晶圆检测会在所有流程结束后进行最终检测,生成yr和mapping以及电性能检测数据。
只有所有工序结束,完成slice后才叫芯片,一整片交晶圆,最简单的分立器件三极管都要30道工序,集成电路100道起步。 doxerman 发表于 2022-10-19 09:14
涂胶-烘烤-曝光-显影这统称为光刻工序,曝光就是所谓的特殊工序,必须在显影后才可以检查曝光过程质量,光 ...
谢谢。这么复杂。确实不了解。{:1_101:} doxerman 发表于 2022-10-19 09:14
涂胶-烘烤-曝光-显影这统称为光刻工序,曝光就是所谓的特殊工序,必须在显影后才可以检查曝光过程质量,光 ...
2000年之前毕业,四年 微电子技术的学习,熟悉的字眼和芯片的生产过程! 太高级,不懂 {:1_180:} 当然需要 {:1_180:}
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