累积和控制图 - 选项 - 计划/类型
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使您可以选择和定义累积和。

对话框项

累积和类型

单侧 (LCL, UCL)：单击以生成两个单侧累积和。使用上限累积和检测过程水平中向上的偏移，使用下限累积和检测向下的偏移。此控制图使用 UCL 和 LCL 确定过程何时不受控制。有关单侧累积和的讨论，请参见 [26] 和 [27]。

使用 FIR：选中此项以使用 FIR（快速初始响应）方法初始化单侧累积和。

标准差倍数：输入中心线上下标准差的倍数。通常，在 0 处初始化这些标准差，但是如果过程在启动时不受控制，则累积和不检测多个子组的情况。[16] 已显示此方法可减少在启动时检测问题所需的子组数量。

每个信号后重置：选中此项以在生成不受控制信号时将累积和重置为其初始值。当过程不受控制时，应尝试查找并消除问题的原因。如果问题已得到纠正，则应将累积和重置为其初始值。

双侧 (V-mask)：单击此项以生成使用 V-mask 确定过程何时不受控制的单个双侧累积和。有关 V-mask 控制图的讨论，请参见 [16] 和 [30]。

子组中心：输入将 V-mask 以其为中心的子组编号。如果不输入值，Minitab 将 V-mask 以最后一个子组为中心。

累积和计划：通常从 ARL（平均运行长度）表中选择这些值。请参见 [16] 和 [17]。

h：为 h 键入一个大于 0 的值。对于单侧累积和，h 是中心线与控制限制之间标准差的数量。对于双侧累积和 (V-mask)，Minitab 以 H = h * s 计算起点处的 V-mask (H) 的半宽。可以使用 ARL 表选择 h。请参见 [16] 和 [17]。

k：为 k 键入一个大于 0 的值。对于单侧累积和，k 是过程中允许的“备用值”。对于双侧累积和，k 是 V-mask 臂的斜率。可以使用 ARL 表选择 k。请参见 [16] 和 [17]。

当子组大小不相等时，计算控制限/V-mask

使用子组的实际大小：选择此项以使用在主对话框中定义的子组估计 s。

假定所有子组大小：选择此项以使用指定的子组大小估计控制限制，然后键入子组大小。如果子组大小不等，则每个控制限制都不是直线，而是因子组大小而异。如果大小变化不大，您可能要通过在此文本框中输入样本大小来强制控制限制固定不变。只有控制限制会受到影响；标绘的数据不会发生更改。